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$微波等離子體設(shè)備氣路、化學(xué)氣相沉積 MPCVD設(shè)備供氣\CVD設(shè)備供氣管道、金剛石材料生長(zhǎng)設(shè)備的供氣、供水、廢氣等系統(tǒng)工程$

微波等離子體設(shè)備氣路、化學(xué)氣相沉積 MPCVD設(shè)備供氣\CVD設(shè)備供氣管道、金剛石材料生長(zhǎng)設(shè)備的供氣、供水、廢氣等系統(tǒng)工程

化學(xué)氣相沉積是一種化工技術(shù)，該技術(shù)主要是利用含有薄膜元素的一種或幾種氣相化合物或單質(zhì)、在襯底表面上進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)生成薄膜的方法。化學(xué)氣相淀積是近幾十年發(fā)展起來(lái)的制備無(wú)機(jī)材料的新技術(shù)?；瘜W(xué)氣相淀積法已經(jīng)廣泛用于提純物質(zhì)、研制新晶體、淀積各種單晶、多晶或玻璃態(tài)無(wú)機(jī)薄膜材料。這些材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物，也可以是III-V、II-IV、IV-VI族中的二元或多元的元素間化合物，而且它們的物理功能可以通過(guò)氣相摻雜的淀積過(guò)程精確控制。化學(xué)氣相淀積已成為無(wú)機(jī)合成化學(xué)的一個(gè)新領(lǐng)域。現(xiàn)代科學(xué)和技術(shù)需要使用大量功能各異的無(wú)機(jī)新材料，這些功能材料必須是高純的，或者是在高純材料中有意地?fù)饺肽撤N雜質(zhì)形成的摻雜材料。但是，我們過(guò)去所熟悉的許多制備方法如高溫熔煉、水溶液中沉淀和結(jié)晶等往往難以滿足這些要求，也難以保證得到高純度的產(chǎn)品。因此，無(wú)機(jī)新材料的合成就成為現(xiàn)代材料科學(xué)中的主要課題化學(xué)氣相沉積（CVD）1.原理：化學(xué)氣相沉積(Chemical Vapor Deposition 簡(jiǎn)稱CVD) 是利用氣態(tài)或蒸汽態(tài)的物質(zhì)在氣相或氣固界面上發(fā)生反應(yīng)生成固態(tài)沉積物的過(guò)程。2.過(guò)程：化學(xué)氣相沉積過(guò)程分為三個(gè)重要階段：反應(yīng)氣體向基體表面擴(kuò)散、反應(yīng)氣體吸附于基體表面、在基體表面上發(fā)生化學(xué)反應(yīng)形成固態(tài)沉積物及產(chǎn)生的氣相副產(chǎn)物脫離基體表面。＊常見(jiàn)的化學(xué)氣相沉積反應(yīng)有:熱分解反應(yīng)、化學(xué)合成反應(yīng)和化學(xué)傳輸反應(yīng)等。3.化學(xué)氣相沉積法之所以得到發(fā)展，是和它本身的特點(diǎn)分不開(kāi)的，其特點(diǎn)如下：（1）沉積物種類多: 可以沉積金屬薄膜、非金屬薄膜，也可以按要求制備多組分合金的薄膜，以及陶瓷或化合物層。（2） CVD反應(yīng)在常壓或低真空進(jìn)行，鍍膜的繞射性好，對(duì)于形狀復(fù)雜的表面或工件的深孔、細(xì)孔都能均勻鍍覆。（3）能得到純度高、致密性好、殘余應(yīng)力小、結(jié)晶良好的薄膜鍍層。（4）由于薄膜生長(zhǎng)的溫度比膜材料的熔點(diǎn)低得多，由此可以得到純度高、結(jié)晶完全的膜層，這是有些半導(dǎo)體膜層所必須的。（5）利用調(diào)節(jié)沉積的參數(shù)，可以有效地控制覆層的化學(xué)成分、形貌、晶體結(jié)構(gòu)和晶粒度等。（6）設(shè)備簡(jiǎn)單、操作維修方便。（7）反應(yīng)溫度太高，一般要850-1100℃下進(jìn)行，許多基體材料都耐受不住CVD的高溫。采用等離子或激光輔助技術(shù)可以降低沉積溫度。 CVD設(shè)備種類及其特點(diǎn)和應(yīng)用領(lǐng)域化學(xué)氣相沉積的方法很多，如常壓化學(xué)氣相沉積(Atmospheric pressure CVD，APCVD)、低壓化學(xué)氣相沉積(Low pressure CVD，LPCVD)、超高真空化學(xué)氣相沉積(Ultrahigh vacuum CVD，UHVCVD)、激光誘導(dǎo)化學(xué)氣相沉積(Laser CVD，LCVD)、金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積(Metal-organic CVD，MOCVD)，等離子體化學(xué)氣相沉積（Plasma enhanced CVD，PECVD）等。根據(jù)CVD的加熱方式，可以將CVD分為熱壁和冷壁兩種。市面上常見(jiàn)的化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)通常是熱壁CVD，直接依靠爐體的升溫對(duì)生長(zhǎng)區(qū)進(jìn)行加熱。熱壁CVD工藝相對(duì)更加成熟，制備成本較低，且在材料生長(zhǎng)中表現(xiàn)出良好的可靠性，因此收到眾多實(shí)驗(yàn)室的青睞。冷壁 CVD 系統(tǒng)通過(guò)恒流源直接對(duì)導(dǎo)電襯底供電加熱，腔壁和樣品無(wú)直接接觸，僅由于熱輻射傳導(dǎo)而略微升溫，因此稱為“冷壁”。它的優(yōu)點(diǎn)是其降溫速度可以通過(guò)所加的恒流源控制，能夠在較大的范圍內(nèi)控制降溫速率。我公司在行業(yè)內(nèi)擁有眾多的設(shè)計(jì)與施工經(jīng)驗(yàn),具有GC2管道施工資質(zhì),配套國(guó)內(nèi)多家高校與科研單位合作,根據(jù)不同類型的設(shè)備提供不同的高純供氣管道設(shè)計(jì)與施工方案，下圖與實(shí)際案例微波等離子體設(shè)備氣路、MPCVD鉆石生長(zhǎng)設(shè)備供氣氣路、CVD培育鉆石設(shè)備供氣、CVD設(shè)備氣路管道安裝、CVD設(shè)備氣路閥板、CVD設(shè)備供氣裝置等

超高純特氣設(shè)備及管路輸送系統(tǒng)

特氣氣體管路輸送系統(tǒng)公司向所有電子半導(dǎo)體行業(yè)提供優(yōu)質(zhì)的工藝管道氣體輸送系統(tǒng)方案，是指半導(dǎo)體、TFT-LCD、LED、太陽(yáng)能、光纖、制藥、電子、工業(yè)、實(shí)驗(yàn)室等行業(yè)大宗氣體系統(tǒng)從廠務(wù)端的供應(yīng)設(shè)備至生產(chǎn)廠房的管道連接、二次配工程，氣體通過(guò)BSGS、氣瓶柜等供應(yīng)設(shè)備和連接管道，將特殊氣體按照工藝要求的參數(shù)安全、持續(xù)的輸送至生產(chǎn)機(jī)臺(tái)，并且可以保證不間斷供應(yīng)和全自動(dòng)供應(yīng)，以實(shí)現(xiàn)持續(xù)生產(chǎn)和客戶利益＊大化。流程圖圖例： HOOKUP工程：特氣氣體輸送設(shè)備（BSGS）用于半導(dǎo)體與LCD微電子等行業(yè)特殊氣體輸送系統(tǒng)，多用于有毒/可燃/腐蝕性和稀有氣體。高純氣體供應(yīng)設(shè)備系統(tǒng)包括：特氣柜（GasCabinet）、氣瓶柜（BSGS）、氣瓶架(GR)、閥組箱（VMB）、閥門盤(pán)（VMP）等產(chǎn)品；體輸送系統(tǒng)設(shè)備 1、高純度大規(guī)模氣體輸送系統(tǒng)。 2、不間斷供氣同時(shí)保證系統(tǒng)內(nèi)氣體純度。 3、為客戶降低氣體輸送系統(tǒng)的成本。 4、采用與氣瓶柜相似的技術(shù)規(guī)格。 5、磅秤和加熱系統(tǒng)為可選項(xiàng)，可根據(jù)客戶要求進(jìn)行配置。設(shè)備—?dú)馄抗?GC)及氣瓶架(GR) 1、安全設(shè)計(jì)（柜殼） 2、316LVIM/VAR材料 3、根據(jù)氣體性質(zhì)應(yīng)用材料 4、100%內(nèi)表面拋光 5、無(wú)顆粒 6、PLC控制與觸摸屏操作 7、簡(jiǎn)便的操作和維護(hù) 8、全自動(dòng)循環(huán)進(jìn)程 9、全自動(dòng)鋼瓶切換進(jìn)程 10、安全選型與閥門互鎖功能設(shè)備—?dú)怏w分流設(shè)備VMB/VMP/VDB/VDP 1、增大生產(chǎn)能力 2、減少氣瓶柜數(shù)量以降低成本 3、簡(jiǎn)易化設(shè)計(jì) 4、全自動(dòng)、半自動(dòng)及手動(dòng)控制 5、1X4、1X6、1X8輸出用點(diǎn) 6、吹掃、真空（可選）

氫能源設(shè)備及管路輸送系統(tǒng)

公司從事各類燃料氣體設(shè)備（包括氫能發(fā)電機(jī)、氫能發(fā)電器、通信電源等設(shè)備）的氫能源儲(chǔ)氣系統(tǒng)、高壓氫氣管道安裝工程、氫燃料電池電堆供氣管道安裝、氫燃料電池電堆供氣氣路安裝、供氫閥門管道安裝、氮?dú)狻鍤?、氦氣、氧氣、甲烷、煤氣、天然氣、壓縮空氣、廢氣、尾氣、氫氣管路管道氣路安裝組裝、氫廢氣排放排空管道安裝、新能源氣路氣體管道、氫能源管道安裝、氫能源閥組集成、高壓氫氣閥組、加氫站供氣系統(tǒng)閥門、氫能源供氣系統(tǒng)、新能源汽車零部件測(cè)試平臺(tái)、車載儲(chǔ)/供天然氣（氫氣）系統(tǒng)、氫能源匯流排供氣系統(tǒng)、模塊化高壓儲(chǔ)氣供氣系統(tǒng)、氫氣站高壓閥組組裝、供氫站匯流排、供氫站閥組、氫氣魚(yú)雷車減壓裝置、魚(yú)雷車匯流排、魚(yú)雷車集中供氣系統(tǒng)、魚(yú)雷車撬裝設(shè)備、高壓氫氣撬裝設(shè)備、氫氣撬裝匯流裝置、魚(yú)雷車閥組等技術(shù)的開(kāi)發(fā)、集成、現(xiàn)場(chǎng)施工安裝與調(diào)試，氫氣減壓裝置安全操作規(guī)程及應(yīng)急措施一、氫氣減壓裝置使用前的檢查：1、檢查連接部位是否漏氣（用氮?dú)猓?，可涂上肥皂液進(jìn)行檢查，確認(rèn)不漏氣后方可使用。2、檢查氫氣魚(yú)雷車和減壓裝置是否接地，并定期檢查系統(tǒng)接地電阻。二、減壓裝置使用前的置換：1、氫氣減壓裝置在首次使用前要進(jìn)行吹掃，再用氮?dú)膺M(jìn)行置換。2、置換操作：① 緩慢打開(kāi)氮?dú)怃撈块y及減壓裝置的氮?dú)膺M(jìn)口閥，向系統(tǒng)充入氮?dú)膺M(jìn)行置換。② 待系統(tǒng)中有一定的壓力時(shí)，打開(kāi)減壓裝置的放空閥。③ 在放空口進(jìn)行取樣分析，當(dāng)?shù)獨(dú)庵械暮趿俊?.4%時(shí)，置換合格，然后關(guān)閉放空閥及氮?dú)膺M(jìn)口閥。二、氫氣減壓裝置使用步驟：1、緩慢打開(kāi)氫氣魚(yú)雷車上的氫氣總閥；確認(rèn)氫氣魚(yú)雷車和減壓裝置之間的連接管道無(wú)泄漏。2、緩慢打開(kāi)氫氣減壓裝置上進(jìn)氫總閥；3、緩慢打開(kāi)氫氣減壓裝置上的放空閥，繼續(xù)用氫氣置換合格后關(guān)閉放空閥；4、依次緩慢打開(kāi)減壓裝置減壓閥的進(jìn)口閥，同時(shí)觀察壓力表上的氫氣壓力，調(diào)節(jié)減壓閥（減壓閥減壓后設(shè)定壓力一旦確定后，不需要重新設(shè)定），將減壓后壓力控制在1.8~1.9Mpa（觀察壓力表壓力），打開(kāi)減壓閥后出口閥。5、打開(kāi)減壓裝置上去氫氣緩沖罐總閥，并記錄減壓裝置上氫氣壓力表上的壓力數(shù)值。三、停止使用氫氣減壓裝置操作步驟：1、關(guān)閉氫氣魚(yú)雷車上的氫氣總閥；2、關(guān)閉氫氣減壓裝置上進(jìn)氫總閥；3、依次關(guān)閉減壓裝置上減壓閥進(jìn)口及出口閥；4、關(guān)閉減壓裝置去氫氣緩沖罐總閥；5、卸下連接氫氣魚(yú)雷車的氫氣軟管及靜電接地線。四、操作注意事項(xiàng)：1、操作人員應(yīng)經(jīng)崗位培訓(xùn)，考試合格持證上崗；上崗時(shí)應(yīng)穿防靜電工作服，嚴(yán)禁攜帶火種、非防爆電子設(shè)備進(jìn)入減壓裝置附近。2、打開(kāi)氫氣魚(yú)雷車閥門時(shí)一定要輕緩操作，因?yàn)闅錃怍~(yú)雷車內(nèi)的氫氣壓力比較高，若開(kāi)啟過(guò)大會(huì)造成流速過(guò)快，產(chǎn)生靜電。另外壓力瞬間過(guò)高對(duì)管道及接頭造成損壞，產(chǎn)生泄漏。3、操作工操作時(shí)嚴(yán)禁對(duì)管道及閥門敲打，減壓裝置在夏季應(yīng)防曬。4、氫氣減壓裝置附近不得有明火，如附近需動(dòng)火作業(yè)，必須辦理動(dòng)火作業(yè)證，而且明火或電氣設(shè)備與減壓裝置的間距不應(yīng)小于10米。5、嚴(yán)禁將氫氣魚(yú)雷車內(nèi)氣體用盡，應(yīng)保留2~3MPa以上的余壓。6、在連接、吹掃、放空時(shí)，不能將氫氣同氧化性物質(zhì)接觸。7、減壓裝置在使用中操作工應(yīng)加強(qiáng)巡回檢查，檢查各閥門是否處于正常狀態(tài)，壓力表指示值是否正常，反應(yīng)是否靈敏，裝置、管道、閥門、法蘭及各連接處有無(wú)泄漏，接地是否完好，要確保系統(tǒng)的正常運(yùn)行。五、應(yīng)急措施1、如果氫氣發(fā)生微量泄漏，且可以關(guān)閉氫氣源 ① 警告在減壓裝置附近的工作人員； ② 通過(guò)泄漏聲找到泄漏位置； ③ 緩慢關(guān)閉氫氣源（千萬(wàn)不能形成負(fù)壓）。2、如果氫氣泄漏，且不可關(guān)閉氫氣源 ① 如果氫氣泄漏未著火，停留在危險(xiǎn)區(qū)外，并設(shè)立安全區(qū)； ② 設(shè)置斷路標(biāo)志及警戒帶，或派人斷絕加氫一期大門，嚴(yán)禁車輛（包括消防、救護(hù)及指揮車輛）及無(wú)關(guān)人員進(jìn)入泄漏區(qū)； ③ 在事故現(xiàn)場(chǎng)嚴(yán)禁使用各種非防爆的對(duì)講機(jī)、移動(dòng)電話等通訊工具。搶險(xiǎn)救災(zāi)所使用的工具必須是不產(chǎn)生火花的銅制工具； ④ 如果氫氣泄漏已著火，不要試圖撲滅火焰，要加強(qiáng)冷卻正在燃燒的和與其相鄰的貯罐及有關(guān)管道（噴淋保護(hù)），將火控制在一定范圍內(nèi)，讓其穩(wěn)定燃燒，然后緩慢關(guān)閉氫氣閥，讓其燃燒逐漸減?。ㄟm當(dāng)時(shí)可用濕棉被或滅火毯覆蓋），切忌開(kāi)關(guān)閥門過(guò)快，引起回火，發(fā)生爆炸； ⑤ 在事故發(fā)生的同時(shí)操作工應(yīng)立即向車間、公司領(lǐng)導(dǎo)匯報(bào)、聯(lián)系消防部門。

定制化產(chǎn)品方案

我們的焊接團(tuán)隊(duì)擅長(zhǎng)于生產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn)及復(fù)雜的工藝管道和相配套的組件,從簡(jiǎn)單的對(duì)接焊接到具有挑戰(zhàn)性特種材料，大角度異形焊接，我們具備各方面的專業(yè)知識(shí)和制造經(jīng)驗(yàn)以克服焊接位置的材料變形，以幫助客戶實(shí)現(xiàn)他們的設(shè)計(jì)和產(chǎn)品要求。焊接技術(shù)我們?cè)谲壍篮附宇I(lǐng)域擁有超過(guò)10年的經(jīng)驗(yàn)，我們使用內(nèi)部開(kāi)發(fā)的內(nèi)部焊接技術(shù)，為創(chuàng)新制造理念打開(kāi)大門。設(shè)計(jì) 抽查下料制作前準(zhǔn)備焊接拋光檢測(cè) 清洗包裝

大宗氣體管道輸送系統(tǒng)

大宗氣體系統(tǒng)工程：半導(dǎo)體、TFT-LCD、LED、太陽(yáng)能、光纖、生物制藥、電子等行業(yè)使用量較大，需要集中供應(yīng)的惰性氣體，一般有CDA/IA(CleanDryAir/InstumentAir)、GN2、PN2、PAr、PO2、PH2、PHe七種。 ?大宗氣體輸配系統(tǒng)是指將大宗氣體從氣站通過(guò)供應(yīng)管道輸送至生產(chǎn)廠房，再由生產(chǎn)廠房中預(yù)留的閥門通過(guò)二次配管連接至生產(chǎn)機(jī)臺(tái)。管道上可以安裝閥門、調(diào)壓裝置、過(guò)濾裝置等，以滿足生產(chǎn)工藝對(duì)大宗氣體壓力、流量和純度的要求。?CDA：主要供給FAB內(nèi)氣動(dòng)設(shè)備動(dòng)力氣源及吹凈(purge)，LocalScrubber助燃。?IA主要供給廠務(wù)系統(tǒng)氣動(dòng)設(shè)備動(dòng)力氣源及吹凈。?N2：主要供給部分氣動(dòng)設(shè)備氣源或供給給吹凈、稀釋、惰性氣體環(huán)境及化學(xué)品輸送壓力來(lái)源。?O2：供給ETCH制程氧化劑所需及CPCVD制程中供給氧化制程用，供給O3Generator所需之氧氣供應(yīng)及其它制程所需?Ar：供給Sputter制程，離子濺鍍熱傳導(dǎo)介質(zhì)，Chamber稀釋及惰性氣體環(huán)境。?H2：供給爐管設(shè)備燃燒造成濕氧環(huán)境，POLY制程中做H2BAKE之用，W-PLUG制程中作為WF6之還原氣體及其它制程所需。?He：供給化學(xué)品輸送壓力介質(zhì)及制程芯片冷卻。

高純實(shí)驗(yàn)室氣體管路輸送系統(tǒng)

在現(xiàn)代化實(shí)驗(yàn)室中，為了完成實(shí)驗(yàn)，需要用到多種分析儀器，如氣相色譜儀、原子吸收、氣-質(zhì)聯(lián)用儀、ICP等等，其中這些儀器需要用到高純氣體，傳統(tǒng)的做法是采用獨(dú)立鋼瓶供氣模式，且鋼瓶直接放在儀器設(shè)備旁邊，無(wú)形中增加了安全方面的隱患，但是隨著近年來(lái)實(shí)驗(yàn)室投資的不斷加大，儀器設(shè)備的迅速增加，用氣量也逐年增加，傳統(tǒng)供氣模式已經(jīng)難以滿足需求，同時(shí)分散供氣模式帶來(lái)的實(shí)驗(yàn)室布局混亂，鋼瓶的頻繁更換也對(duì)實(shí)驗(yàn)室的管理和維護(hù)造成了困難，為了解決以上兩個(gè)方面的問(wèn)題，就需要一套安全性高且能實(shí)現(xiàn)集中分配供氣的系統(tǒng)完成從氣源向儀器的供氣，這就是實(shí)驗(yàn)室高純氣體管道集中供氣系統(tǒng)的功能所在。氣體安全問(wèn)題實(shí)驗(yàn)室目前存在的安全隱患有哪些？* 非易燃無(wú)毒氣體（含窒息性氣體和氧化性氣體和其他未包含的氣體）* 毒性氣體（含腐蝕性氣體）* 易燃?xì)怏w（含易爆氣體）,有毒、易燃易爆氣體的特性:分子量小,擴(kuò)散快,一旦泄漏造成的危害是＊為嚴(yán)重的！向來(lái)，實(shí)驗(yàn)室是一個(gè)危險(xiǎn)的地方，也許就是一個(gè)炸藥庫(kù)，也許是一個(gè)生化武器庫(kù)，也許是毒藥間，也許是高壓電，有時(shí)也象高壓鍋。爆炸案、火災(zāi)案、中毒案在這里頻頻發(fā)生。稍有偶然的不慎和疏忽，會(huì)造成生命財(cái)產(chǎn)的重大損失。根據(jù)統(tǒng)計(jì)的100起事故是2001-2016年全國(guó)高等院校、科研院所以及包含有物質(zhì)提取、提純、分離、化學(xué)反應(yīng)過(guò)程的企業(yè)實(shí)驗(yàn)室發(fā)生的典型事故，其中高等院校71起、科研院所11起、企業(yè)實(shí)驗(yàn)室18起，100起實(shí)驗(yàn)室事故造成8人死亡，593人受傷和中毒（包括28個(gè)病菌感染者）。中國(guó)礦業(yè)大學(xué)實(shí)驗(yàn)室爆炸致1死4傷　　2015年4月5日中午，位于徐州的中國(guó)礦業(yè)大學(xué)化工學(xué)院一實(shí)驗(yàn)室發(fā)生爆炸事故，致5人受傷，1人搶救無(wú)效死亡。安徽一中學(xué)實(shí)驗(yàn)室爆炸3名教師受傷　　2015年4月29日上午，安徽省淮北礦務(wù)局朱仙莊礦中學(xué)的實(shí)驗(yàn)室突然發(fā)生爆炸，事故造成3名教師受傷。清華實(shí)驗(yàn)室爆炸一博士后身亡 2015年12月18日10點(diǎn)，清華大學(xué)化學(xué)系實(shí)驗(yàn)室發(fā)生一起爆炸事故，一名博士研究生在實(shí)驗(yàn)室內(nèi)使用氫氣做化學(xué)實(shí)驗(yàn)時(shí)發(fā)生爆炸，后被確認(rèn)身亡據(jù)安監(jiān)部門通報(bào)，爆炸是在使用氫氣做化學(xué)實(shí)驗(yàn)時(shí)發(fā)生的。江蘇蘇州大學(xué)實(shí)驗(yàn)室發(fā)生爆炸　　2015年6月17日下午16:30分左右，蘇州大學(xué)物理樓二樓實(shí)驗(yàn)室在處理鋰塊時(shí)發(fā)生爆炸，蘇州消防調(diào)集7輛消防車參與救援，無(wú)人員受傷。北京化工大學(xué)實(shí)驗(yàn)室著火　　2016年1月10日中午北京化工大學(xué)科技大廈一間實(shí)驗(yàn)室內(nèi)又突然著起了火，幸運(yùn)的是現(xiàn)場(chǎng)無(wú)人員傷亡。上海東華大學(xué)生物實(shí)驗(yàn)室發(fā)生爆炸　　2016年9月21日，位于松江大學(xué)園區(qū)的東華大學(xué)化學(xué)化工與生物工程學(xué)院一實(shí)驗(yàn)室發(fā)生爆炸，兩名學(xué)生受重傷，一名學(xué)生受輕微擦傷，暫無(wú)教師受傷。集中供氣系統(tǒng)優(yōu)點(diǎn)：1、實(shí)驗(yàn)室供氣管道采用BA級(jí)無(wú)縫鋼管可保持氣體的純度　　專用氣瓶均配有沖洗閥，以排除每次更換氣瓶時(shí)引入的雜質(zhì)，確保了管路終端氣體的純度。2、不間斷氣體供應(yīng)　　氣路控制系統(tǒng)可以手動(dòng)或自動(dòng)方式在氣瓶之間進(jìn)行切換，以保證氣體的連續(xù)供給。3、實(shí)驗(yàn)室供氣管道的壓力、泄露警示與緊急切斷　　當(dāng)氣壓低于警報(bào)限時(shí)，報(bào)警裝置可自動(dòng)啟動(dòng)報(bào)警以便及時(shí)更換氣瓶，當(dāng)濃度探測(cè)器探測(cè)到危險(xiǎn)性氣體泄漏時(shí)會(huì)將信號(hào)傳送至報(bào)警器同時(shí)啟動(dòng)緊急切斷與排風(fēng)扇聯(lián)動(dòng)。4、氣體壓力穩(wěn)定　系統(tǒng)采用兩級(jí)減壓(一級(jí)由供氣控制系統(tǒng)調(diào)節(jié)，二級(jí)由使用點(diǎn)的控制閥調(diào)節(jié))方式供氣，可得到非常穩(wěn)定的壓力。5、實(shí)驗(yàn)室供氣管道工程的高效率　　通過(guò)供氣控制系統(tǒng)，可充分使用鋼瓶中的氣體，減少殘氣余量，降低用氣成本。6、操作簡(jiǎn)便　　所有氣瓶均集中在同一位置，減少了搬運(yùn)安裝等操作，更節(jié)約時(shí)間及成本費(fèi)用。7、減少氣瓶的租金　　采用中央供氣系統(tǒng)，可減少對(duì)氣瓶數(shù)量的要求，從而節(jié)省氣瓶的租用和購(gòu)買成本。8、減少分子篩損耗　　控制氣體純度可有效地減少數(shù)派對(duì)分子篩的使用量(節(jié)約成本)。9、無(wú)氣瓶在實(shí)驗(yàn)室中采用集中供氣系統(tǒng)意味著實(shí)驗(yàn)室中沒(méi)有氣瓶裝備，有如下好處：　　* 提高安全性。氣瓶可能倒地而導(dǎo)致?lián)p壞或傷害?！　? 提高安全感。氣瓶可能導(dǎo)致氣體泄漏、火災(zāi)等危險(xiǎn)情況。　　* 節(jié)省空間。從實(shí)驗(yàn)室移走氣瓶可空出更多的實(shí)驗(yàn)空間。集中供氣管道設(shè)計(jì)依據(jù)與技術(shù)規(guī)范：《工業(yè)金屬管道工程施工及驗(yàn)收規(guī)范》GB50235-2010《現(xiàn)場(chǎng)設(shè)備、工業(yè)管道焊接工程施工及驗(yàn)收規(guī)范》GB50236-2011《科學(xué)實(shí)驗(yàn)室建筑設(shè)計(jì)規(guī)范》JGJ91-93《建筑設(shè)計(jì)防火規(guī)范》GB50016-2006《化工工業(yè)金屬管道工程施工及驗(yàn)收規(guī)范》GB50235-97《電子工業(yè)潔凈廠房設(shè)計(jì)規(guī)范》GB50472-2008《石油化工可燃?xì)怏w和有毒氣體檢測(cè)報(bào)警設(shè)計(jì)規(guī)范》GB50493-2009《輸氣管道工程設(shè)計(jì)規(guī)范》GB50251-2003《壓縮空氣站設(shè)計(jì)規(guī)范》GB50029-2003《氫氣站設(shè)計(jì)規(guī)范》GB50177-2005《工業(yè)金屬管道設(shè)計(jì)規(guī)范》GB50316-2000《氧氣站設(shè)計(jì)規(guī)范》GB50030-91《乙炔站設(shè)計(jì)規(guī)范》GB50031-91

智能自動(dòng)化氣體控制集成系統(tǒng)

公司依托經(jīng)驗(yàn)豐富的設(shè)計(jì)工程師和強(qiáng)大的各類專業(yè)設(shè)計(jì)軟件,能夠協(xié)助客戶解決各類流體設(shè)計(jì)問(wèn)題,并根據(jù)客戶所需定制化設(shè)計(jì)各類電氣相包括手動(dòng)、聯(lián)動(dòng)、自動(dòng)化等流體控制系統(tǒng)。

生物制藥管道輸送系統(tǒng)

涉及到高潔凈衛(wèi)生級(jí)的管道系統(tǒng)：?注射用水(WFI，WaterForInjection)?潔凈蒸汽(CS，CleanSteam)?在線清洗(CIPS/CIPR，Clean-In-PlaceSupply/Return)?工藝料液(PF，ProcessFluid)?通常尺寸從1/2"到4"，采取軌道自動(dòng)焊(OrbitalWelding)手工焊接和衛(wèi)生級(jí)卡口(HygienicClamp)方式連接。生物制藥管道區(qū)別于石化項(xiàng)目的重要特點(diǎn)：?1.設(shè)計(jì)細(xì)節(jié)要求：潔凈、滅菌、自排凈、可追溯性等?2.安裝要求：軌道自動(dòng)焊接、內(nèi)窺鏡檢查、嚴(yán)格控制坡度、安裝過(guò)程中嚴(yán)格質(zhì)量控制等?3.材料要求：316L為主，對(duì)接觸產(chǎn)品的材料內(nèi)表面處理嚴(yán)格要求，分機(jī)械拋光和電解拋光，衛(wèi)生級(jí)卡口連接等。要求更高的，亦可作鈦管的設(shè)計(jì)安裝。?4.驗(yàn)證要求：DQ，IQ，OQ，PQ，工程批，驗(yàn)證批?5.GMP認(rèn)證、EU認(rèn)證、FDA認(rèn)證相關(guān)